大陸面板龍頭京東方「聯姻」光刻膠龍頭阜陽欣奕華，這件投資案的背後，反映了中國半導體產業面對歐美寡頭壟斷格局，掀起了一股國產化替代的浪潮。 今年2月，上海微電被美國商務部納入出口觀察清單，而週四被正式列入出口管制清單。 卻不願採用，而ASML卻孤注一擲找上臺積電和林本堅，由此成為光刻機巨頭，可見中國人在光刻機技術研發方面的優勢，中國大陸突破光刻機技術也將是必然。 今年2月，上海微電被美國商務部納入出口觀察清單，而週四被正式列入出口管制清單。
- 上海微電子的光刻機從90納米到28納米，歷經13年時間才實現三代(60nm、45nm、40nm)技術的跨越，為何如此艱難？
- 2008年，“02”重大科技專項再次對該計劃進行了補充。
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- 阿斯麥生產的光刻機對於生產最先進晶片至關重要，該公司在該領域的技術優勢是目前世界上任何一家公司都無法比擬的，也是全球唯一一家能夠供應7納米及以下晶片所需的EUV（極紫外）光刻機的廠商。
換句話來說，想要實現「中國芯」的崛起，那麼我們首先就要實現光刻設備的國產化。 上海微電子光刻機 觀眾朋友們點個關注加個贊，只為給喜歡科普的您，帶來更多的知識。 既然已經找到瞭阻礙國內半導體發展的原因，自然我們要想盡辦法去解決瞭，目前國傢也在聯合各大企業，共同去打造一條完全自主化的供應鏈，而光刻機作為首要攻克的目標，目前中科院也已經開始介入技術研發，各大高校研究所也已經行動瞭起來。
上海微電子光刻機: 半導體解密：ASML曝光機憑什麼能一廠獨大？臺積電總能買到最好的曝光機？ASML有對手嗎？
中國目前無法製造先進的晶片，例如用於最新智能手機的晶片，主要是因為中國無法生產最先進的光刻機，而該領域目前由荷蘭公司阿斯麥（ASML Holding）主導。 上海微電子，更廣為人知的名稱是SMEE，是中國唯一一家能夠生產用於高端半導體開發的先進光刻設備的中國公司，在中共晶片自給自足計劃中佔據重要地位。 雖然28納米的光刻機即將實現國產化，據說可以通過多重曝光的工藝，來實現14納米或7納米的晶元製造。 中芯國際使用荷蘭ASML的DUV 14納米的光刻機，目前用「N+1」、「N+2」的工藝都沒能實現7納米晶元量產，所以基於工藝和成本28納米光刻機很難實現更低製程晶元的製造。
用來製造高端芯片的光刻機對中國芯片製造很重要 ，要想製作高端芯片，就必須要擁有高性能的光刻機。 上海微電子光刻機2025 世界上能生產光刻機的國家，目前有三個國家，分別是日本的尼康和佳能，荷蘭的阿斯麥，還有中國的上海微電子裝備有限公司。 中國的光刻機製造出來的芯片，雖然能滿足國內大部分產品製造要求，但是對於高精端產品製造上，還是有一定的困難。 而荷蘭的阿斯麥公司在技術上領先於日本的公司，擁有了大量光刻機訂單，日本公司沒有訂單逐漸衰敗。 中荷蘭的阿斯麥公司，也就一舉成為了全世界最大的光刻機製造商，各國的光刻機幾乎都是從阿斯麥公司進口。
上海微電子光刻機: 芯片自主可控深度解析
截止 ，長江存儲累計公開中標了16臺光刻機，其中阿斯麥供應13臺，包括3臺浸沒式光刻機、1臺ArF_Dry光刻機、8臺248nm的KrF光刻機以及1臺365nm的i線光刻機；佳能供應3臺i線光刻機。 SSX200系列，專用於AM-OLED和LCD顯示屏TFT電路製造，可應用於2.5代～6代的TFT顯示屏量產線。 最後，阿斯麥爾如今發展的重心似乎是在韓國，2022年2月21日，阿斯麥爾宣佈，到2025年，韓國EUV光刻機的銷售額目標將要擴大到大概有147。 在2022年4月5日，阿斯麥爾甚至表露出了更進一步的意向。
首先，ASML擴大在中國市場研發中心的工程師團隊規模，增設技術服務站點、加大與國產芯片企業的合作力度。 除此之外，隨著技術革新不斷推進，投資成本不斷擡高，會讓很多企業望塵莫及。 上海微電子光刻機2025 具體而言，在摩爾定律的推動下，元器件集成度的大幅提高要求集成電路線寬不斷縮小，導致生產技術與製造工序愈為復雜，製造成本呈指數級上升趨勢。 根據IBS統計，隨著技術節點的不斷縮小，集成電路製造的設備投入呈大幅上升的趨勢。
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2002年，時任臺積電前研發副總經理的林本堅拿著這項「沉浸式曝光」方案，跑遍美國、德國、日本等國，遊說各家半導體巨頭，但都喫了閉門羹。 500系列面向IC後道先進封裝，300系列面向LED、MEMS、功率器件製造，200系列面向TFT曝光。 28奈米將會是我們國產光刻機的最高工藝水平，嚴格來說，這個真的算不上高水平，它的前面還有14、7、5、3、2，甚至是1nm。 一個是方正證券去年釋出的相關資訊例顯示，國家 02 專項光刻機專案二期擬於 2020 年 12 月驗收由上海微電子設計整合的 193nm ArF 浸沒式 DUV 光刻機。 據路透社報道，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）行政總裁（CEO）Peter Wennink近日表示，中國不太可能獨立造出光刻機，「但也沒那麼絕對（never say never）」。
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一臺高階曝光機的造價需要上億美元，甚至比一臺波音的客機還要貴。 如此之昂貴的原因是因為其涉及系統內建、精密光學、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環境控制等多項先進技術，是所有半導體製造設備中技術含量最高的設備。 其中最關鍵零件之一，由德國蔡司生產的反射鏡必須要做到史無前例的光滑度，瑕疵大小僅能以皮米（奈米的千分之一）計。 光刻技術在發展中不斷的優化，是一步一步從歷史的實踐中得出來的工藝，如果想另闢蹊徑，我們將面對的是未知的黑暗與技術深淵，其難度不低於研發出高階曝光機。 所以如果沒有曝光機，晶片是無法正常製造的，目前也沒有替代品。 究其原因，還是因為中國沒有自己的EUV光刻機，這個號稱現代工業領域的掌上明珠，是製造7nm及以下晶片必須用到的設備，沒有它就沒有先進位程晶片，故而臺積電無法繼續為華為代工後，麒麟晶片也就用一塊少一塊了。
上海微電子光刻機: 全球光刻機市場分析
因為上海微電是中共光刻機產業的龍頭企業，美方此舉將重創中共先進光刻機產業，乃至晶片自給自足野心。 上海微電子光刻機 中國是全球最大的半導體芯片消費市場，ASML如果繼續無法自由出貨，那麼一旦我們實現了高精度光刻設備的國產化，它就將被徹底失去中高端光刻領域獨一無二的市場地位。 雖然上海微電子的這臺國產光刻機只是用於封測，而並非用於芯片製造環節，但這並不能抹掉其帶來的重大轉折意義。 要知道，該設備有著高精尖的工藝，達到了國際頂尖水準，徹底彌補了國內封裝領域的短板。 由於ASML使用了美國技術，無法向國內市場自由出貨，因此，在我們的芯片國產化道路上，光刻設備壟斷便成了最大攔路虎。
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綜合代理資料，馬鞍山區1月份總共錄得約134宗二手買賣成交，較去年12月約107宗，按月增加二成五；而2月首七日，亦已錄得約40宗二手成交。 上海微電子光刻機 英國國家統計局公佈，1月消費物價指數按年升幅降至10.1%，低過市場預期，從去年10月時11.1%的41年高位進一步回落。 上月CPI按月由升轉跌，跌幅0.6%，受到運輸及食肆等相關價格下跌推動，但部分被煙酒價格上升抵銷。 崑山興達公司一直從事的就是LCD、光學攝像頭等半導體封測的相關業務，在2022年前三季度的時候，公司營收在60億元以上，但是公司的整體業務處於虧損的狀態。 Nikon 作為九十年代最大的曝光機巨頭，它的衰落，說來也充滿偶然，始於那一回157nm光源幹刻法與193nm光源濕刻法的技術之爭。 短短幾年，Nikon 就將昔日曝光機大國美國拉下馬，與舊王者 GCA 平起平坐，拿下三成市場市佔率。
上海微電子光刻機: 我們有國產光刻機嗎？
資金到位，技術入場，人才雲集，但偏偏聯盟中的美國曝光機企業 SVG、Ultratech 早在80年代就被 Nikon 打得七零八落，根本爛泥扶不上牆。 上海微電子光刻機 於是，英特爾力邀 ASML 和 上海微電子光刻機2025 Nikon 加入 EUV LLC。 但問題在於，這兩家公司，一個來自日本，一個來自荷蘭，都不是本土企業。 上海微電子光刻機 目前，無論是汽車晶片，手機晶片還是其他領域，包括軍用，航空太空等應用的晶片都離不開曝光機。