浙商證券研報表示，當前我國在清洗、熱處理、去膠設備的國產化率分別達到34%、40%、90%；在塗膠顯影、刻蝕、真空鍍膜的國產化率達到10%至30%；在原子層沉積、光刻、量測檢測、離子注入的國產化率暫時低於5%。 現在說到光刻機，可能大部分朋友想到的都是EUV光刻機，畢竟EUV光刻機是近年來的熱門話題，而且很多朋友之所以開始瞭解光刻機，也是因為先了解到EUV光刻機。 上海微電子光刻機2025 上海微電子光刻機 中新网上海新闻8月30日电(贺霄 于俊)作为中国发展历史最久、技术装备能力最强、交付业绩最多的核电…
- 值得欣慰的是2019年5月初，首臺來自荷蘭ASML公司的EUV光刻機目前已經安全抵達中芯國際。
- 工商信息显示,上海微电子的第一大股东上海电气(集团)总公司,上海电气(集团)总公司持股约32%。
- 因為上海微電是中共光刻機產業的龍頭企業，美方此舉將重創中共先進光刻機產業，乃至芯片自給自足野心。
- 1961年，美國GCA公司製造出了第一台曝光機，從此曝光成為晶片製造中最重要的環節。
- 上海微電子副董事長賀榮明在受訪時表示：“2002年，我國專家出國考察時，對方工程師說，哪怕把所有圖紙都給你們，你們也未必能做出光刻機。
- 目前，上海微电子已经申请专利数量已经达到了3380项，形成了一定的技术护城河。
- 不过，在对光刻精度要求较低的封装光刻机、 LED/MEMS/功率器件光刻机、面板光刻机市场，上海微电子则取得了不错的成绩。
CINNO Research半導體事業部總經理Elvis Hsu表示，光刻機是半導體製造設備價格佔比最高的部分約25%至30%，其研發難點在於曝光光源、對準系統和透光鏡頭等技術的整合，以及龐大資金投入。 目前，中國技術領先的光刻機研製廠家是上海微電子，可以穩定生產90/65納米製造工藝的光刻機。 Peter 上海微電子光刻機 Wennink在作上述表述同時還透露，阿斯麥尚未獲得向中國出口最先進光刻機的許可，但一些生產成熟製程的光刻機出口並不受限制。 目前全球光刻機龍頭為 ASML，此外，德國 SUSS、日本尼康、美國 Ultratech 等也具備較強實力。 上海微電子表示，當時已與多家客戶達成新一代先進封裝光刻機銷售協定，首台將於年內交付。
上海微電子光刻機: 光刻機產品
现今，上海微电子装备生产的先进封装光刻机在中国大陆的市占率达80%，海外市佔率达40%[13]。 目前，上海微电子已经申请专利数量已经达到了3380项，形成了一定的技术护城河。 2016年，上海微电子实现扫描投影光刻机量产，该系列光刻机最高可生产90nm制程芯片，进一步提升了国产芯片的国产率。
- 要想打破日本Nikon 和Canon 所壟斷的 FPD 光刻機市場格局，仍需要時間。
- 光刻機又名掩模對準曝光機，被稱為“半導體工業皇冠上的明珠”，是半導體產業鏈中最精密的設備，是製造芯片的核心裝備。
- 特別在目前的國際大環境裏，不僅是給所有堅持自主研發企業的興奮劑，也是對外展示我們研發力量的鎮山虎。
- DUV光刻机主要利用光的折射原理，在透镜和晶圆之间通过采用不同的介质，来改变光刻性能。
- 摘要：近日,被誉为“光刻机第一股”的华卓精科的科创板IPO申请获上交所受理,光刻机自主可控再次获得资本市场关注。
- 虽然富士康在封测生产线所采用的光刻机在技术上其实不如芯片制造所需要的光刻机，不过这对于中国的光刻机产业链还是有重要的意义，这意味着将为大陆光刻机产业链带来巨额的收入。
上海微电子官网显示,公司是在国家科技部和上海市政府共同推动下,由国内多家企业集团和投资公司共同投资组建的高科技企业。 公司在光刻设备领域拥有全国最先进的技术,高端前道光刻机实现90nm制程,光刻机可以应用于集成电路产业链中晶圆制造、封装测试,以及平板显示、高亮度LED等领域。 上海微電子光刻機 在国家重大科技专项的支持下,上海微电子的IC前道光刻机有望在未来几年实现45 nm、28 nm制程,逐步缩小与国际先进水平的差距。 据中国方正证券的一份研究报告披露，“在02专项光刻机项目二期中，设定的时间为2020年12月验收193纳米ArF浸入式DUV光刻机，其制程工艺为28纳米”，即网络上流传的28纳米光刻机（这个说法当然不准确）。
上海微電子光刻機: 上海微電子28nm光刻機: 上海微電子小躍進 新一代「先進封裝光刻機」交付
美國一直在遊說其合作夥伴，包括日本和荷蘭，收緊對中國出口用於製造半導體的設備。 彭博社不久前報導，荷蘭政府有意對半導體製造設備出口至中國祭出新的管制。 光刻機是生產大規模集成電路的核心裝置，其製造和維護均需要先進和強大的光學及電子工業基礎，世界上只有少數廠家掌握這種技術。 或者你可以這樣理解，在小型裝置中，需要更低製程的晶片，例如手機，因為空間有限，想要實現更好的效能，晶片就需要更加先進的生產工藝。 但是28奈米是成熟工藝，生產成本低，只要不追求極致效能的情況下，這種製程的晶片，其效能也夠用的，用來生產我們日常生活中的電子裝置是沒有問題的，例如電視、電視盒子、音響、電梯、空調、微波爐、冰箱、汽車等等。
到了2023年5月開始，不少訊息據稱更精良的首部28nm曝光機樣機＂SSA/800-10W＂據聞將於2023年末投入測試[10][11][12]，但是並沒有更多相關細節流出。 近日，上海电气氢能技术中心暨氢能博士后科研工作站揭牌，成为继上海电气电站氢能源事业部之后，上海电气响… 到了2023年5月開始，不少訊息據稱更精良的首部28nm光刻機樣機＂SSA/800-10W＂據聞將於2023年末投入測試[10][11][12]，但是並沒有更多相關細節流出。 2023年11月17日，由深圳市中国国际高新技术成果交易中心指导、投资家网主办，深圳市天使投资协会联… 浙江联翔智能家居股份有限公司（以下简称“联翔股份”或“公司”）成立于2004年，被誉为国内“墙布第一…
上海微電子光刻機: 上海微電子28nm光刻機7大分析2023!專家建議咁做…
當然，儘管在前道光刻機方面我們的差距還是很大，但上海微電子在後道光刻機上的實力可不弱。 上海微電子光刻機 萬物生長靠太陽，高階晶片的發展如今也只能依靠先進光刻機，可能會有種不一樣的聲音，不是有晶片堆疊，不是有晶片封裝嗎？ 如果12nm的芯片成功量產，那也就意味着我們離擺脫依賴國外進口芯片的局面更進一步。
就在所有人都在為上海微電子的發展而努力的時候，上海積塔那邊又接到了一筆新的訂單，上海微電子一下子就拿到了四個新的測試裝置。 2020年對於中國半導體行業來說，是砥礪前行的一年，因為美國一紙禁令，必須使用EUV光刻機的華為5奈米晶片，麒麟9000無法生產，讓很多國人既氣憤又無奈。 雖然台積電已經掌握了5nm芯片工藝，但是一直無法擺脱美國的限制，製造的芯片十分依賴荷蘭ASML公司的光刻機。 美國之所以實施“芯片禁令”，主要是因為中國沒有適合的芯片代工廠商可以完成芯片的製造，只能依靠台積電這一代工廠商進行代工。
上海微電子光刻機: 微電子光刻機: 歐盟北約首以官方文件形式升級合作應對「中國挑戰」 中方：暴露對華認知偏見和傲慢
不仅如此，工信部科技司也于2月公布了《全国集成电路标准化技术委员会筹建公示》。 近日,被誉为“光刻机第一股”的华卓精科的科创板IPO申请获上交所受理,光刻机自主可控再次获得资本市场关注。 据了解,目前国内光刻机处于技术领先的是上海微电子,其最先进的ArF光源光刻机节点为90nm,中国企业技术整体较为落后,在先进制程方面与国外厂商仍有较大差距。 IT之家報導，有消息稱這所半導體封測廠所用的光刻機設備採用上大陸光刻機龍頭上海微電子28nm光刻機，國產光刻機將從此前的 90nm一舉突破到 28nm製程，同時對於降低國外市場依賴有重要意義。 7月20日，青岛新核芯高端封测项目首台光刻工艺设备进场仪式举行，出自上海微电子的封装光刻机顺利搬入。
上海微電子光刻機: 微電子光刻機: 全球光刻機：「日荷」瓜分九成天下，中國正奮力直追
此前，國家知識產權局公佈了一項華為新的專利“反射鏡、光刻裝置及其控製方法”，在極紫外線光刻機核心技術上取得突破性進展。 2022年7月7日，上海微電子裝備舉行了首台2.5D/3D先進封裝曝光機的交付儀式，但該機器是用於晶片下游製造的先進封裝曝光機，並非此前關注的用於晶片上游製造的曝光機[13]。 上海微電子光刻機 現今，上海微電子裝備生產的先進封裝曝光機在中國大陸的市占率達80%，海外市佔率達40%[13]。 上海微電子裝備（集團）股份有限公司（簡稱SMEE）是中國大陸半導體裝備製造商，主要生產半導體裝備、泛半導體裝備、高端智慧型裝備的開發、設計、製造、銷售及技術服務[1]。 这也使得在IC前道光刻机市场，国产化率较低，国内的IC前道光刻机市场主要被ASML、尼康和佳能瓜分。
上海微電子光刻機: 上海微电子装备
同時，也將幫助中國的晶圓代工廠降低對於國外半導體設備的依賴，進一步提升半導體製造關鍵設備的國產化率，提升中國半導體產業鏈的整體實力。 ASML、Canon 以及Nikon 是全球光刻機市場的主要供應商，其中 ASML 在高端市場一家獨大並且壟斷 EUV 上海微電子28nm光刻機 光刻機。 從光刻機總體出貨量來看（含非 IC 前道光刻機），目前全球光刻機出貨量 99%集中在 ASML、Nikon 上海微電子光刻機 和Canon 。
上海微電子光刻機: 上海电气:母公司为国产光刻机龙头上海微电子第一大股东
居於兩者中間位置的14奈米顯然成為了中堅力量，成為絕大多數中高端晶片的主要製程。 大陸的中國電子資訊產業發展研究院電子資訊研究所所長溫曉君在接受《環球網》訪問時表示，大陸半導體行業研判，28奈米將是100%國產晶片的新起點，儘管面臨著技術方面的難題，但已看到希望。 如今，隨著通信和光電子技術應用的發展，人們的生產生活及數字經濟的發展都已經離不開晶片了。 而作為製造晶片的最核心設備之一，光刻機就成為了困擾半導體產業及整個信息通信產業的「卡脖子」技術。 值得欣慰的是2019年5月初，首臺來自荷蘭ASML公司的EUV光刻機目前已經安全抵達中芯國際。 採用ArF光源的浸沒式DUV光刻機是目前全球使用最廣泛的光刻機，可以完成45nm-10nm製程的芯片製造，足以應付絕大部分使用場景，中國芯片製造受制於人的局面將得到根本性的改觀。
上海微電子光刻機: 微電子光刻機: 華為打了套組合拳：左手鴻蒙，右手光刻機
ASML 周三公布了创纪录的收入和利润，尽管个人电脑和智能手机销售放缓，但对芯片生产设备的需求创下纪录，2022年第三季度，ASML实现了净销售额58亿欧元，毛利率为51.8%，净利润达17亿欧元。 正如工銀投行研究中心信息技術行業首席分析師許可源所言，全球半導體產業碎片化趨勢顯現，對於我國半導體產業，國產替代成為未來發展的長期邏輯。 隨著國內半導體制造和封測產能的持續擴張，將為國內設備廠商提供更多驗證與導入的機遇，帶動國內產業在技術和市場上的突破。 上海微電子光刻機 2022年7月7日，上海微電子裝備舉行了首台2.5D/3D先進封裝光刻機的交付儀式，但該機器是用於芯片下游製造的先進封裝光刻機，並非此前關注的用於芯片上游製造的光刻機[13]。 現今，上海微電子裝備生產的先進封裝光刻機在中國大陸的市占率達80%，海外市佔率達40%[13]。
上海微電子光刻機: 光刻機“卡脖子”問題體現在哪兒？國產光刻機如何突圍
今年第三季度新增订单金额创历史新高，达到89亿欧元，销售了80台新的光刻系统和6台二手光刻机，包括12台EUV设备(与第二季度一致)和74台DUV机器(少于第二季度的79台)。 ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink表示：“虽然每个细分市场的需求动态存在分化，但我们整体的客户需求依然强劲。 顯然，對於上海微電子來說，其28nm光刻機的順利推出，將打破國外廠商的對於IC前端光刻機市場的壟斷，可覆蓋更為廣闊的市場需求，特別是在國產替代趨勢之下，將有望大幅提升其光刻機的出貨量、營收和利潤率。
上海微電子光刻機: 微電子光刻機9大伏位
根据已有专利信息可知，长光所已经可以实现离轴光学系统、超高重频窄脉宽CO2激光器、极紫外光聚焦反射系统等光刻机子系统。 然而，DUV光刻机利用多重曝光技术制造7nm芯片，往往也意味着更高的成本。 当然，在浸润式光刻等技术的加持下，台积电也曾用DUV成功制造出第一代7nm芯片。 前段时间，中芯国际在梁孟松的带领下，用DUV经过多重曝光，实现了N+1工艺，相当于10nm级别，而N+2理论可达7nm级别。 DUV光刻机主要利用光的折射原理，在透镜和晶圆之间通过采用不同的介质，来改变光刻性能。
未来随着国产芯片产业不断发展，我们的国产光刻机、国产芯片一定能够实现从低端到高端的发展，这也是中国过往众多企业、产品的发展路线，从低端到高端的蜕变。 這也是光刻機巨頭之間較量決定成敗及市場佔有率的重要籌碼，亦是後來者能否實現「拐彎超車」或提升市場競爭力及話語權的關鍵。 譬如，爐式設備、刻蝕設備、薄膜沉積設備市場中AMAT、TEL、LAM等國際大廠市場份額佔據過半，而國内能跟上步伐的僅有北方華創（爐式設備、刻蝕設備）跟沈陽拓荊（薄膜沉積設備）。 上海微電子光刻機2025 隨着容器的快速發展，容器管理工具Kubernetes也應運而生，目前不僅百度、京東、阿里、Google等大公司在使用K8s，一些中小企業也開始把業務遷移到K8s中。 所以即便是世界出現問題，例如當下的疫情，甚至發生戰爭，對我們都不會有任何影響。 上海微電子光刻機 上海微電子光刻機2025 1961年，美國GCA公司製造出了第一台曝光機，從此曝光成為晶片製造中最重要的環節。
上海微電子光刻機: 市场合作
在芯片制造的前道工藝環節中，最關鍵、市場規模最大的設備是光刻（光刻曝光）、刻蝕、薄膜沉積（CVD）三大領域。 美國一直在游說其合作夥伴，包括日本和荷蘭，收緊對中國出口用於製造半導體的設備。 彭博社不久前報道，荷蘭政府有意對半導體製造設備出口至中國祭出新的管制。
上海微電子光刻機: 上海电气日立能源成立电力公司
前道光刻機就是我們平時關注的光刻機，ASML的EUV光刻機，也是前道光刻機，用於把電路圖刻到矽晶圓上的，這才是我們最缺少的、急需突破的光刻機。 在晶片製造過程中，有兩種光刻機，一種叫做前道光刻機，一種叫做後道光刻機，對應的是晶片製造工藝流程中的前道工藝、後道工藝。 上海微電子光刻機 而且美國硅谷的光刻機，幾乎全部都是從荷蘭進口的，阿斯麥的最大僱主是美國，美國對中國實施芯片制裁，阿斯麥自然要緊跟美國的步伐，禁止對中國出口光刻機。
上海微電子光刻機: 科技焦點
上海电气(集团)总公司为上市公司上海电气(601727)的母公司,上海电气(601727)是中国最大的综合性装备制造企业集团之一。 2009年末，上海微电子实现首台封装光刻机产品交付，并于2012年实现封装光刻机外销。 如今，中国大陆芯片制造工艺停留在了14nm，而我国想要突破10nm以下工艺，离不开EUV光刻机。 除了上述各領域的創新外，被譽為新一輪科技革命的戰略製高點——量子科學領域，中國位列全球“第一方陣”。
12月6日消息，近日有中国台湾地区的报道称，11月26日在青岛正式投产的富士康集团首座晶圆级封测厂，引进多达46台上海微电子生产的28nm光刻机，并同时称这意味着大陆生产的光刻机实现从90nm到28nm的跨越。 上海微电子本身起步就晚，而且不论是在人员数量、营收规模，还是研发投入上，与ASML都有着巨大的差距。 上海微電子光刻機 你想，中国完全独立自主生产的光刻机，起步阶段必然存在稳定性差、成本高，以及客户信任尚未建立的现实困难。 上海微電子光刻機2025 此时ASML以成熟稳定的技术和产品，一定可以拿到中国客户的大量订单，对国产光刻机造成巨大市场压力。
上海微電子光刻機: 上海微電子28nm光刻機: 中国在芯片和芯片设备国产化方面都取得了进展，美国和ASML傻眼了
而與此同時發生的另一件事，雖然沒有像鴻蒙那樣引起巨大的關注，但重要性絲毫不弱於鴻蒙。 工商信息顯示，華為的全資子公司哈勃科技，在2021年6月2日完成了對光刻機光源廠商科益虹源的注資，持有其4.76%的股份。 對科益虹源的投資，意味著華為終於要向芯片製造王冠上的明珠——光刻機——發起進攻。 工商信息显示,上海微电子的第一大股东上海电气(集团)总公司,上海电气(集团)总公司持股约32%。
此前，上海微電子公開表示在泛半導體方面有所研究，有多個技術路線，但具體細節不能透露。 根據數據顯示，中國在清洗、熱處理、去膠設備的國產化率分別達到34％、40％、90％，在塗膠顯影、刻蝕、真空鍍膜的國產化率達到10-30％，而在原子層沉積、光刻、量測檢測、離子注入方面的國產化率暫時低於5％。 最近ASML的负责人还表示，对中国的芯片出口禁令，伤害最大的恰恰是欧美半导体行业，他甚至预测，15年之内，中国将会追赶上来，有能力生产任何产品。 浸没液体相比于传统气体介质具有较高粘度，粘性力的增强，使得压力驱动下浸没液体对投影物镜的作用力将变得越来越不可忽视。 作用在物镜表面的应力如果过大将使物镜产生变形和位移，并引起双折射与光路失真，如缺乏有效控制，将造成曝光成像的缺陷。 相比之下，中国虽然也有自己的国产光刻机厂商——上海微电子装备股份有限公司（SMEE），但是由于起步晚，再加上国外的技术封锁，使得其在技术上与国外存在着较大差距。
上海微電子光刻機: 上海微電子裝備
據中國媒體PingWest品玩2月7日報道，2021年9月18日，上海微電子舉行的新產品發布會上，宣佈推出新一代大視場高分辨率先進封裝光刻機。 上海微電子曾表示，當時已與多家客户達成新一代先進封裝光刻機銷售協議，首台將於年內交付。 目前产线中光刻机主要依赖于进口，以国内长江存储截至2020年2月的半导体设备采购招标结果为例，其光刻机全部来自于ASML 和佳能。
日前，有消息稱上海微電子有望最快年底向市場交付首台國產28nm工藝沉浸式前道光刻機。 一是因为光刻机是芯片制造最为关键的设备之一，二是因为这也是当前被“卡脖子”的设备，中芯国际订购的ASML公司EUV光刻机无法发货，已经严重影响到了7nm以下的先进制程工艺研发。 2019年，台积电、三星电子、英特尔分别都收到了ASML的EUV光刻机，因此华为如果想加工它的7纳米芯片，只能找这些公司，但分析来看，只有三星电子或许有一些可能。 尼康、佳能 FPD 光刻技术优势明显，基本垄断了 FPD 光刻机市场，其中尼康份额最高。 根据爆料，ASML将在中国台湾新北市新建厂区，一期投资将达到300亿新台币(约合人民币68.8亿元)，约有2000名员工进驻!
其實 歸根結底還是美國的原因，光刻機的製造非常複雜，其中僅零部件就多達十萬個以上，這些原材料來自於全球五十多個國家。 阿斯麥公司甚至公開表示，即便是公開製造光刻機的圖紙，也不可能有人能夠製造出來。 而其中有不少零配件都是來自美國，美國雖然自己不能生產光刻機，但是阿斯麥公司光刻機的生產，還依賴着美國。 目前，全球能生產光刻機的廠商寥寥無幾，荷蘭阿斯麥、日本尼康和佳能佔據了主要市場。 其中，阿斯麥技術最為領先，它是唯一能生產極紫外線光刻機的廠家，這種光刻機可實現7納米甚至5納米工藝。 因為上海微電是中共光刻機產業的龍頭企業，美方此舉將重創中共先進光刻機產業，乃至芯片自給自足野心。